FBCVD即流化床化學氣相沉積（Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition），其裝置在硅碳負極材料制備中十分關鍵。FB - CVD流化床氣相沉積設備裝置，它是生產新型硅基負極材料過程中需要使用的最關鍵設備之一，屬于從實驗級到中試級再到量產級的流化床反應器范疇，廣泛應用于鋰電池硅碳負極等多個領域。

硅碳負極材料的裝置，通過化學氣相沉積法制備具有三維多孔結構的碳骨架復合硅碳材料，實現高效、均勻的粉體材料處理。這種結構設計有效緩解了硅材料在充放電過程中的體積膨脹效應，還顯著提升了材料的循環穩定性和倍率性能。原料加入：通過加料系統將多孔碳粉體加入流化床反應器中。流化過程：使用惰性載氣通過氣體分布器將多孔碳粉體在反應容器內流化，使其呈現流態化狀態。氣體混合與輸入：將含硅氣體原料經過過濾后，通過流量計控制流量并按比例混合，隨后輸入反應容器。硅沉積：在高溫條件下，含硅氣體原料中的硅原子沉積在多孔碳的孔道內，形成納米硅結構。碳包覆處理：硅沉積完成后，升溫并通入乙炔氣體，完成高溫碳包覆處理，以增強材料的穩定性和性能。

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